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上海:“十四五”期間集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模年均增速達到20%左右

來源:中國高新院 achie.org 日期:2021-07-21 點擊:

近日,上海印發(fā)《上海市戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)和先導(dǎo)產(chǎn)業(yè)發(fā)展“十四五”規(guī)劃》。

規(guī)劃提出,集成電路是戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展重點之一。規(guī)劃指出,以國家重大戰(zhàn)略任務(wù)為牽引,強化創(chuàng)新平臺體系建設(shè)、關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)和重大項目布局,持續(xù)提升產(chǎn)業(yè)能級和綜合優(yōu)勢。“十四五”期間,集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模年均增速達到20%左右,力爭在制造領(lǐng)域有兩家企業(yè)營收穩(wěn)定進入世界前列,在設(shè)計、裝備材料領(lǐng)域培育一批上市企業(yè)。到2025年,基本建成具有全球影響力的集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新高地。

先進制造工藝進一步提升,芯片設(shè)計能力國際領(lǐng)先,核心裝備和關(guān)鍵材料國產(chǎn)化水平進一步提高,基本形成自主可控的產(chǎn)業(yè)體系。重點發(fā)展:1.集成電路設(shè)計。提升5G通信、桌面CPU、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子等核心芯片研發(fā)能力,加快核心IP開發(fā),推進FPGA、絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)、高端微控制單元(MCU)等關(guān)鍵器件研發(fā)。提升集成電路設(shè)計工具供給能力,培育全流程電子設(shè)計自動化(EDA)平臺,優(yōu)化國產(chǎn)EDA產(chǎn)業(yè)發(fā)展生態(tài)環(huán)境。2.制造和封測。擴大集成電路成熟工藝產(chǎn)線產(chǎn)能,提高產(chǎn)品良率,提升先進工藝量產(chǎn)規(guī)模,繼續(xù)加快先進工藝研發(fā)。提升特色工藝芯片研發(fā)和規(guī)模制造能力。進一步提升先進封裝測試產(chǎn)業(yè)規(guī)模。3.裝備和材料。加快研制具有國際一流水平的刻蝕機、清洗機、離子注入機、量測設(shè)備等高端產(chǎn)品。開展核心裝備關(guān)鍵零部件研發(fā)。提升12英寸硅片、先進光刻膠研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化能力。

 

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上海:“十四五”期間集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模年均增速達到20%左右

2021-07-21 來源:中國高新院 achie.org 點擊:

近日,上海印發(fā)《上海市戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)和先導(dǎo)產(chǎn)業(yè)發(fā)展“十四五”規(guī)劃》。

規(guī)劃提出,集成電路是戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展重點之一。規(guī)劃指出,以國家重大戰(zhàn)略任務(wù)為牽引,強化創(chuàng)新平臺體系建設(shè)、關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)和重大項目布局,持續(xù)提升產(chǎn)業(yè)能級和綜合優(yōu)勢。“十四五”期間,集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模年均增速達到20%左右,力爭在制造領(lǐng)域有兩家企業(yè)營收穩(wěn)定進入世界前列,在設(shè)計、裝備材料領(lǐng)域培育一批上市企業(yè)。到2025年,基本建成具有全球影響力的集成電路產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新高地。

先進制造工藝進一步提升,芯片設(shè)計能力國際領(lǐng)先,核心裝備和關(guān)鍵材料國產(chǎn)化水平進一步提高,基本形成自主可控的產(chǎn)業(yè)體系。重點發(fā)展:1.集成電路設(shè)計。提升5G通信、桌面CPU、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子等核心芯片研發(fā)能力,加快核心IP開發(fā),推進FPGA、絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)、高端微控制單元(MCU)等關(guān)鍵器件研發(fā)。提升集成電路設(shè)計工具供給能力,培育全流程電子設(shè)計自動化(EDA)平臺,優(yōu)化國產(chǎn)EDA產(chǎn)業(yè)發(fā)展生態(tài)環(huán)境。2.制造和封測。擴大集成電路成熟工藝產(chǎn)線產(chǎn)能,提高產(chǎn)品良率,提升先進工藝量產(chǎn)規(guī)模,繼續(xù)加快先進工藝研發(fā)。提升特色工藝芯片研發(fā)和規(guī)模制造能力。進一步提升先進封裝測試產(chǎn)業(yè)規(guī)模。3.裝備和材料。加快研制具有國際一流水平的刻蝕機、清洗機、離子注入機、量測設(shè)備等高端產(chǎn)品。開展核心裝備關(guān)鍵零部件研發(fā)。提升12英寸硅片、先進光刻膠研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化能力。